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接口芯片XRT94L31IB技术与资料【科美奇科技】深圳

发布人: 菲律宾申慱sunbet网址 来源: 菲律宾申慱sunbet平台 发布时间: 2021-02-23 17:03

  自动驾驶是未来化的表现,车企、科技企业、芯片厂商都在向这一赛道靠拢,在这样的大下,汽车成为继智能终端之后,又一个聚集产业链上下游企业争相投入的消费电子蓝海。高通前不久收购了芯片创业公司Nuvia,博世、、通用汽车、雷诺等车企公司都对这次收购表示期待,当时就有业内分析人士猜测,高通欲整合Nuvia的CPU设计能力,在数字座舱以及先进驾驶系统展开动作。日前高通连发两颗5nm芯片,给这一猜测定了性。从芯片制程上来看,苹果A麒麟骁龙888这些5nm工艺芯片在2020年先后进入视野,智能手机赛道逐渐拥挤,高通抢先携5nm进入自动驾驶赛道,可以达到先发制人的作用。赛迪智库信息化与软件产业所高级咨询师钟新龙向记者指出。

  无论是5G、AI,还是IoT都将带动半导体行业整体进一步发展。而要解决新的运算需求有两个径:个径是继续延伸摩尔定律,通过微缩晶体管来增加晶体管单位面积内的集成数量;第二个径就是依靠集成电(3DIC)系统整合解决方案提升系统效能与功能性。专注特色工艺,在摩尔定律迈向5纳米之际,人们的目光多被几家半导体公司间的先进工艺之争所吸引。然而,逻辑芯片的制造工艺极其复杂多样,5纳米、7纳米等标准工艺只是一部分,晶圆代工厂可以发展的制造工艺平台还有很多,如混合信号、高电压、射频、微机电系统(MEMS)等。2017年联电采取重大市场策略调整,淡出先进工艺的追逐,强化对成熟及差异化工艺市场的开发。和舰芯片作为联电在中国的子公司。

  佳能和尼康仅能在“深紫外线”(DUV)光刻系统上与之竞争。可即使在DUV领域,ASML也拥有62%的市场份额。然而,极紫外光刻产业又并不仅仅只有EUV光刻机。根据半导体专家莫大康的介绍,与EUV相关的还包括光掩膜缺陷检测和涂覆显影等周边设备,以及光刻胶等关键材料。光掩膜缺陷检测设备可检测光掩膜中存在的缺陷,如果承载原始电的光掩膜存在缺陷,则芯片的缺陷率将相应增加。因此该设备也十分重要。日本Lasertec是这一领域的主要制造商。Lasertec公司的经营企划室室长三泽祐太朗指出:“随着微缩化的发展,在步入2纳米制程时,DUV的感光度可能会不够充分。”采用EUV光源的检测设备的需求有望进一步增长。

  业界,目前为成熟的技术是193nm液浸式光刻系统,它能够让精确度与成本达到近乎完美的平衡,因此短时间内很难被取代。然而,极紫外光刻技术的出现,迅速吸引了英特尔、台积电等芯片公司的目光。在目前光刻机市场上,荷兰ASML是一家能够生产极紫外光刻机的企业。值得注意的是,台积电、三星是荷兰ASML公司的股东,所以拥有优先供货权。据业内人士透露,台积电、三星这两家芯片代工巨头,几乎包揽了荷兰ASML公司未来五年的极紫外光刻机产能。此前有韩媒报道称,三星将在2021年获得更多的极紫外光刻机设备。一来三星在芯片设计上有着行业的实力,二来掌握了先进芯片制造的主动权,与造车巨头特斯拉联手打造的5nm汽车芯片离面世也不久了。高通携5nm车芯抢跑自动驾驶,特斯拉联手三星强势进入5nm车芯赛道,汽车芯片作为5nm的分赛道,一场激烈的芯片角逐赛即将展开。

  再到13.5纳米(EUV)。EUV是线纳米工艺的关键。华创调研显示,半导体芯片生产的难点和关键点在于将电图从掩膜上转移至硅片上,这一过程需要通过光刻来实现。光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。芯片在生产中需要进行20~30次的光刻,耗时占到IC生产环节的50%左右,占芯片生产成本的1/3。如果采用EUV,晶圆厂可以减芯片设计缩小所遇到的光学麻烦,并在此过程中省去一些多重图形(multi-patterning)步骤,在理想情况下能够节省成本和时间,提高良品率。也正是这个原因,尽管ASML的EUV售价高达1.2亿美元,三星和台积电等厂商依然积极采购。

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